日本住友化學31日發(fā)布消息稱,將在韓國生產(chǎn)用于尖端半導體生產(chǎn)的感光材料(光刻膠)。住友化學將投入上百億日元建立新工廠,新工廠將于9月開工建設,生產(chǎn)的光刻膠適用于形成微細電路的ArF(氟化氬)。
日本住友化學31日發(fā)布消息稱,將在韓國生產(chǎn)用于尖端半導體生產(chǎn)的感光材料(光刻膠)。住友化學將投入上百億日元建立新工廠,新工廠將于9月開工建設,生產(chǎn)的光刻膠適用于形成微細電路的ArF(氟化氬)。
光刻膠又稱光致抗蝕劑。在芯片的加工過程中,需要用紫外光、X射線等,在半導體表面“刻”上所需的圖像。而光刻膠的用法則有兩種,一種是“正性光刻膠”,將其涂在半導體表面,半導體曝光的部分會被溶解“雕刻”,未曝光的部分則被留下;另一種是“負性光刻膠”,用法和“正性光刻膠”一樣,但是半導體曝光的部分會被保留,未曝光的部分會被溶解。整個過程類似于中國的刻章技術,分為陰陽兩種形式。
光刻膠的重要性,在芯片加工生產(chǎn)的過程中所起到的作用自然不用說了。從國際形勢上來看,日本生產(chǎn)的半導體材料占全球產(chǎn)量的52%,其中韓國對日本生產(chǎn)的光刻膠依賴程度達到了43.9%。在2019年,日韓貿(mào)易爭端的時候,日本就曾經(jīng)降低了對韓光刻膠的出口量,導致了韓國三星等企業(yè)的恐慌。通過這件事就可以看出來,光刻膠是半導體芯片生產(chǎn)過程中不可或缺的一個關鍵環(huán)節(jié),如果誰在這個環(huán)節(jié)上掌握了先進技術,就能有較強的發(fā)言權。
近日,據(jù)南大光電公司透露,該公司生產(chǎn)的ArF光刻膠已經(jīng)通過國家驗收,可用于7nm芯片的生產(chǎn)。
據(jù)了解,光刻膠及其配套化學品占半導體材料產(chǎn)值12%,全球市場規(guī)模近百億美元,行業(yè)技術壁壘和客戶壁壘高,目前主要被日本、韓國和歐美國家壟斷。根據(jù)Cision數(shù)據(jù),2019年中國光刻膠市場規(guī)模約88億人民幣,預計該市場2019-2022年仍將以年均15%的速度增長,至2022年中國光刻膠市場規(guī)模將超過117億人民幣。
近些年來,全球半導體材料市場受周期性影響較大,尤其中國臺灣、韓國兩地波動較大。北美和歐洲市場幾乎處于零增長狀態(tài),日本的半導體材料長期處于負增長狀態(tài)。全球范圍看,只有中國大陸半導體材料市場處于長期增長狀態(tài),2016-2018年連續(xù)三年增速超過10%。2007年至2018年,我國半導體材料銷售額從全球占比7.5%大幅提升至16.2%。2020年中國對新冠疫情的有效防控也幫助中國半導體企業(yè)迅速恢復生產(chǎn),穩(wěn)定需求和供給,與西方各國進一步拉大差距。
2019年中國大陸是各地區(qū)中唯一增長的市場,銷售額為86.9億美元,占全球半導體材料市場份額的17%,相比于國內電子產(chǎn)業(yè)全球占比還遠遠不夠,在美日公司占據(jù)優(yōu)勢的情況下,雖然目前各大主要品類的半導體材料領域均有國內企業(yè)涉足,但整體對外依存度仍在60%以上,特別地,大硅片、靶材、CMP拋光墊、高端光刻膠等半導體材料對外依存度高達90%以上,未來國產(chǎn)替代提升空間大。
想要了解更多光刻膠行業(yè)的發(fā)展前景,請查閱《2021-2025年中國光刻膠行業(yè)競爭分析及發(fā)展前景預測報告》。
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2021-2025年中國光刻膠行業(yè)競爭分析及發(fā)展前景預測報告
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