2022年電子束曝光系統(EBL)行業(yè)現狀及發(fā)展前景分析

• 2022年3月16日 haochenchong來源：互聯網 1391 92
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電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。電子束曝光系統即用于實現電子束曝光的系統。電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。

2022年電子束曝光系統(EBL)行業(yè)現狀及發(fā)展前景分析

電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。電子束曝光系統即用于實現電子束曝光的系統。電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。

光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據德布羅意的物質波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。

電子束曝光是用低功率密度的電子束照射電致抗蝕劑，經顯影后在抗蝕劑中產生圖形的一種微細加工技術。

這種曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工藝容限大，而且生產效率高，但由于電子束在光刻膠膜內的散射，使得圖案的曝光劑量會受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨近效應)，造成的結果是，顯影后，線寬有所變化或圖形畸變。雖然如此，限角度投影式電子束光刻仍是最具前景的非光學光刻。

隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束設備在性能和數量上均占優(yōu)勢。最先進的激光制版系統，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。

據不完全統計，截至2021年底，全球電子束曝光系統產能約為3564臺，產量約為3411臺，產能利用率約為95.71%。

根據中研普華研究報告《2022年全球與中國電子束曝光系統(EBL)市場深度研究分析報告》統計分析顯示：

第一節(jié) 中國市場電子束曝光系統(EBL)2018-2021年產量、產值及增長率

近年來，中國電子束曝光系統的產量和產值都呈現出較快的增長態(tài)勢。據統計，2021年，中國電子束曝光系統的產量約為864臺，同比增長12.06%;產值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

圖表：2018-2021年中國電子束曝光系統產量及產值情況

數據來源：中研普華產業(yè)研究院

第二節(jié) 美國市場電子束曝光系統(EBL)2018-2021年產量、產值及增長率

據統計，2021年美國電子束曝光系統的產量約為268臺，較2020年增長了5.10%;產值約為2.29億美元，較2020年增長了6.02%。

圖表：2018-2021年美國電子束曝光系統產量和產值情況

數據來源：中研普華產業(yè)研究院

第三節(jié) 歐洲市場電子束曝光系統(EBL)2018-2021年產量、產值及增長率

據統計，2021年歐洲電子束曝光系統的產量約為1364臺，較2020年增長了6.98%;產值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。

圖表：2018-2021年歐洲電子束曝光系統產量及產值情況

數據來源：中研普華產業(yè)研究院

第四節(jié) 日本市場電子束曝光系統(EBL)2018-2021年產量、產值及增長率

據統計，2021年日本電子束曝光系統的產量約為791臺，較2020年增長了2.06%;產值約為6.87億美元，較2020年增長了3.0%。

圖表：2018-2021年日本電子束曝光系統產量及產值情況

數據來源：中研普華產業(yè)研究院

想要了解更多電子束曝光系統(EBL)行業(yè)詳細分析，可點擊查看中研普華研究報告《2022年全球與中國電子束曝光系統(EBL)市場深度研究分析報告》

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