未來10年光刻機巨頭年均增長11% 半導體設備國產(chǎn)化發(fā)展機遇

• 2021年9月29日 HuangJiang來源：新浪 1361 89
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荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)又大幅上調(diào)了財務預測，并且表示，由于市場對其產(chǎn)品的需求旺盛，預計到2030年，公司營收將以每年11%左右的速度增長。ASML(阿斯麥)按照使用的光源不同可以分為DUV光刻機和EUV光刻機。更為重要的EUV光刻機上，ASML(阿斯麥)是處于全球獨A

未來10年光刻機巨頭年均增長11%

荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)7月份的第二季度盈利發(fā)布會上，預計2021年銷售額將增長35%，達到近190億歐元，毛利率超過50%。

周三，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥(ASML)又大幅上調(diào)了財務預測，并且表示，由于市場對其產(chǎn)品的需求旺盛，預計到2030年，公司營收將以每年11%左右的速度增長。

該公司預計2025年營收將達到240 - 300億歐元，毛利率最高將達到55%。相比之下，此前的預測是2025年營收150億至240億歐元，毛利率至少50%。

光刻機哪個國家的最好

光刻機(Mask Aligner) 又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。生產(chǎn)芯片的光刻機是中國在半導體設備制造上最大的短板，國內(nèi)晶圓廠所需的高端光刻機幾乎完全依賴進口。

荷蘭ASML(阿斯麥)公司是全球最大的光刻機制造商，也是全球唯一可以提供EUV光刻機的廠商，在全球高端光刻機市場處于壟斷地位。

ASML(阿斯麥)按照使用的光源不同可以分為DUV光刻機和EUV光刻機。更為重要的EUV光刻機上，ASML(阿斯麥)是處于全球獨占的地位，意思是該半導體設備只有 ASML 能供應，這在全球產(chǎn)業(yè)鏈中屬于極度特別的狀態(tài)。

2021年全球半導體行業(yè)支出1500億美元

根據(jù)美國半導體行業(yè)協(xié)會(SIA)公布的數(shù)據(jù)顯示，2021年1-6月全球半導體市場銷售額達到2,531億美元，同比增長21.4%，而在其公布的最新數(shù)據(jù)顯示，2021年7月全球半導體銷售額454.4億美元，同比增長29.1%。

SIA還預計2021年全球半導體市場銷售額將增長25.1%，在2022年，全球半導體市場銷售額將增長10.1%至6060億美元，并預計所有區(qū)域都將再次出現(xiàn)正增長。市場需求的旺盛將會使得全球半導體行業(yè)維持高增長。

美國半導體行業(yè)協(xié)會(SIA)在最新發(fā)布的報告中表示，2021年，全球半導體行業(yè)的資本支出預計將達到近1500億美元，2022年將超過1500億美元。在2021年之前，全球半導體行業(yè)的年度資本支出從未超過1150億美元。

SIA表示，全球半導體行業(yè)正計劃通過創(chuàng)紀錄的制造和研發(fā)投資，來滿足未來幾年預期的市場增長。市場研究機構IDC稱，在消費、計算、5G和汽車半導體的持續(xù)強勁增長的推動下，2021年全球半導體營收預計將激增12.5%，達到5220億美元。

半導體設備國產(chǎn)化發(fā)展機遇

目前，半導體行業(yè)產(chǎn)能整體仍處在緊張狀態(tài)，再加上主要供應鏈馬來西亞和越南等東南亞國家半導體工廠因疫情而被迫關閉，產(chǎn)能供給緊張進一步加劇。

全球半導體產(chǎn)能供給緊張對我國半導體行業(yè)來說既是機遇也是挑戰(zhàn)。在這樣的背景下，我國半導體國產(chǎn)化率上升空間大，國產(chǎn)替代進程有望進一步加快，這對國內(nèi)半導體設備商來說是有利的。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，在2021二季度，中芯國際產(chǎn)能利用率達到100.4%，華虹半導體則達到109.5%，產(chǎn)能利用率依舊維持高位。

此外，在已知緊供給造成晶圓廠上修資本支出增加，從而利好設備廠商前提條件下，臺積電上調(diào)2021年資本開支至300-310億美元，并宣布未來3年投入1000億美元大舉擴產(chǎn);中芯國際預計2021年資本支出為43億美元;世界先進資本支出2021年規(guī)劃資本支出51億新臺幣，同比增長44.1%。這將有助于國產(chǎn)半導體設備進一步發(fā)展。

中芯國際、華虹半導體等代工廠持續(xù)擴產(chǎn)，國產(chǎn)晶圓代工、封測、設備和材料等也因此具備強勁增長動能，將持續(xù)受益。

欲了解中國光刻機行業(yè)發(fā)展詳細分析，可點擊中研普華《2021-2026年光刻機市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預測報告》

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  2021-2026年光刻機市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預測報告

  隨著國內(nèi)經(jīng)濟的發(fā)展，光刻機市場發(fā)展面臨巨大機遇和挑戰(zhàn)。在市場競爭方面，光刻機企業(yè)數(shù)量越來越多，市場正面臨著供給與需求的不對稱，光刻機行業(yè)有進一步洗牌的強烈要求，但是在一些光刻機細分...

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