光刻機(jī)(lithography)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)的概念
光刻機(jī)(lithography)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。
光刻機(jī)是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備,制造和維護(hù)需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ),世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機(jī)價(jià)格昂貴,通常在3 千萬(wàn)至5億美元。
根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示:
中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈發(fā)展得如此緩慢,在于早期中國(guó)考慮到先進(jìn)技術(shù)可以通過(guò)在海外購(gòu)買的方式實(shí)現(xiàn),因此導(dǎo)致國(guó)產(chǎn)的光刻機(jī)即使生產(chǎn)出來(lái)也沒(méi)有廠商愿意使用,畢竟國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)在技術(shù)方面不如海外企業(yè)。直到近幾年,國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)得到重視。
光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀分析
隨著半導(dǎo)體和信息通訊等產(chǎn)業(yè)穩(wěn)步擴(kuò)張,全球光刻機(jī)銷量呈現(xiàn)穩(wěn)步增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),2021年top3企業(yè)銷量達(dá)478臺(tái),同比2020年增長(zhǎng)65臺(tái)。整體來(lái)看,集成電路、面板和LED光刻機(jī)整體出貨約650臺(tái),其中集成電路約500臺(tái)左右。
光刻機(jī)市場(chǎng)由三個(gè)品牌壟斷,ASML、尼康(Nikon)、佳能(Canon)市場(chǎng)占有率超過(guò)90%,是典型的寡頭壟斷市場(chǎng),而ASML更是壟斷最高端的極紫外(EUV)光刻機(jī)市場(chǎng)。從全球光刻機(jī)市場(chǎng)份額來(lái)看,2020年ASML、Nikon和Canon分別占據(jù)全球光刻機(jī)市場(chǎng)84%、7%、5%,合計(jì)市場(chǎng)份額約96%。
從政策環(huán)境上來(lái)看,我國(guó)對(duì)于光刻機(jī)行業(yè)較為重視。其主要表現(xiàn)在對(duì)于整個(gè)IC產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的政策優(yōu)待以及對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)的相關(guān)規(guī)劃與推動(dòng)。其主要表現(xiàn)在資金方面的補(bǔ)助和人才方面的培養(yǎng),以及進(jìn)出口,投融資方面的政策扶持。
EUV作為唯一能夠制備7nm及以下工藝的光刻機(jī),采用EUV光源,使用的光波波長(zhǎng)只有13.5nm, NA (數(shù)值孔徑)為0.33, 目前全球只有ASML能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)。
2020年中國(guó)集成電路累計(jì)產(chǎn)量達(dá)到了2614.2億塊,同比增長(zhǎng)29.53%。2021年中國(guó)集成電路累計(jì)產(chǎn)量達(dá)到了3594億塊,同比增長(zhǎng)37.48%。中國(guó)已成為全球規(guī)模最大、增速最快的集成電路市場(chǎng)。
光刻機(jī)的下游市場(chǎng),數(shù)據(jù)顯示,2021年全球半導(dǎo)體市場(chǎng)規(guī)模達(dá)5559,同比2020年增長(zhǎng)26.2%。中國(guó)集成電路銷售額超萬(wàn)億元,達(dá)10458.3億元,同比2020年增長(zhǎng)18.2%。
國(guó)產(chǎn)產(chǎn)業(yè)鏈在光刻機(jī)方面的進(jìn)展,讓中國(guó)正成為全球最具潛力的光刻機(jī)生產(chǎn)國(guó),這方面是ASML所在的荷蘭和尼康所在的日本都無(wú)法達(dá)到的,產(chǎn)業(yè)鏈已成為中國(guó)光刻機(jī)的核心競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。
中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù),對(duì)市場(chǎng)海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞,為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務(wù),最大限度地降低客戶投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營(yíng)成本,把握投資機(jī)遇,提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。想要了解更多最新的專業(yè)分析請(qǐng)點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的《2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》。
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2022-2027年光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告
隨著光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷加劇,大型企業(yè)間并購(gòu)整合與資本運(yùn)作日趨頻繁,國(guó)內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來(lái)愈重視對(duì)行業(yè)市場(chǎng)的分析研究,特別是對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)環(huán)境和客戶需求趨勢(shì)變化的深入研究,以期提前...
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