三維掃描技術(shù)承載于三維掃描儀，近年來(lái)隨著三維掃描技術(shù)的精進(jìn)，三維掃描儀也有了快速穩(wěn)定的發(fā)展。三維掃描從開(kāi)始的接觸式的三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x逐步發(fā)展成現(xiàn)在的非接觸式的拍照式三維掃描儀和手持式三維掃描儀，無(wú)論是在效率還是便攜性上都有了大大提高。
三維掃描技術(shù)承載于三維掃描儀，近年來(lái)隨著三維掃描技術(shù)的精進(jìn)，三維掃描儀也有了快速穩(wěn)定的發(fā)展。三維掃描從開(kāi)始的接觸式的三坐標(biāo)測(cè)量?jī)x逐步發(fā)展成現(xiàn)在的非接觸式的拍照式三維掃描儀和手持式三維掃描儀，無(wú)論是在效率還是便攜性上都有了大大提高。
三維掃描技術(shù)能大大減少?gòu)?fù)雜三維建模的工作量，目前已經(jīng)被廣泛的運(yùn)用于工業(yè)制造、醫(yī)療整形、航空航天、建筑文物、3D打印以及VR、AR等領(lǐng)域。
目前工業(yè)三維檢測(cè)領(lǐng)域最為主流的掃描儀是手持式激光三維掃描儀和拍照式三維掃描儀，它們各有當(dāng)前行內(nèi)所熟知的優(yōu)勢(shì)：手持式三維掃描儀的高度便攜性和靈活性;拍照式三維掃描儀的高分辨率和高細(xì)節(jié)度。
這兩種類(lèi)型的三維掃描儀各自的優(yōu)勢(shì)也是對(duì)方的短板，市面上還沒(méi)有一款三維掃描儀可以集兩者優(yōu)勢(shì)于一身，即既能掃描高細(xì)節(jié)度的小型物件，又能高效快速掃描大型物體。而三維檢測(cè)領(lǐng)域中的建模對(duì)象大小皆有，對(duì)細(xì)節(jié)度的要求也有所不同，且掃描的工作環(huán)境又非常復(fù)雜，這些都導(dǎo)致單獨(dú)一臺(tái)拍照式或者手持激光式掃描儀無(wú)法解決客戶(hù)所有的掃描難題，因此行業(yè)內(nèi)不少用戶(hù)都會(huì)選擇同時(shí)采購(gòu)兩種不同類(lèi)型掃描儀，搭配使用以解決不同需求。
據(jù)報(bào)道，上海微電子設(shè)備(SMEE)有望在2021年第四季度交付其第二代深紫外(DUV)光刻掃描儀。該工具可以使用28 nm工藝技術(shù)生產(chǎn)芯片，并依賴(lài)于中國(guó)和日本生產(chǎn)的組件。因此，該工具不依賴(lài)于美國(guó)制造的設(shè)備。
其實(shí)，在中國(guó)有許多頗具競(jìng)爭(zhēng)力的半導(dǎo)體生產(chǎn)商，但是很多公司都使用在其他國(guó)家(例如日本，荷蘭和美國(guó))開(kāi)發(fā)和制造的生產(chǎn)設(shè)備。
SSA600 / 20機(jī)器的后繼產(chǎn)品將繼續(xù)使用ArF光源，但工藝技術(shù)要薄得多。據(jù)稱(chēng)，即將推出的掃描儀有望足夠先進(jìn)，以使用28nm工藝技術(shù)制造芯片 。這些掃描儀可以用于40 nm級(jí)以及55nm / 65nm的制造工藝，這在多種應(yīng)用中非常流行。報(bào)告稱(chēng)，到2023年，SMEE希望生產(chǎn)出足以用于20 nm節(jié)點(diǎn)的機(jī)械。據(jù)說(shuō)即將推出的掃描儀將使用日本制造的某些組件，但它們不使用美國(guó)的任何成分。
上海微電子設(shè)備有限公司生產(chǎn)掃描儀已有多年歷史，因此很可能能夠組裝大量的下一代掃描儀，以裝備先進(jìn)的晶圓廠。同時(shí)，已經(jīng)使用ASML和尼康掃描儀采用28納米制程技術(shù)的芯片制造商可能必須重新設(shè)計(jì)其節(jié)點(diǎn)，以使用SMEE的新工具。想要了解更多工業(yè)用掃描儀行業(yè)專(zhuān)業(yè)分析請(qǐng)點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院出版的《2021-2026年工業(yè)用掃描儀行業(yè)深度分析及投資價(jià)值研究咨詢(xún)報(bào)告》。
2021-2025年中國(guó)視覺(jué)檢測(cè)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)分析及發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告
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