石墨烯用途廣泛,現(xiàn)在被證實可用于生產(chǎn)機械硬盤(HDD)。未來五年我國石墨烯產(chǎn)業(yè)將以67.9%的年復合增長率持續(xù)增長,2023年有望突破3700億元。石墨烯的產(chǎn)業(yè)化正在快速發(fā)展,然而亟需關鍵技術(shù)突破以及產(chǎn)業(yè)政策正確引導。
石墨烯(Graphene)是一種以sp2雜化連接的碳原子緊密堆積成單層二維蜂窩狀晶格結(jié)構(gòu)的新材料。石墨烯具有優(yōu)異的光學、電學、力學特性,在材料學、微納加工、能源、生物醫(yī)學和藥物傳遞等方面具有重要的應用前景,被認為是一種未來革命性的材料。
石墨烯用途廣泛,現(xiàn)在被證實可用于生產(chǎn)機械硬盤(HDD)。這項技術(shù)可能帶來超高密度磁性數(shù)據(jù)存儲技術(shù)的進步:單位平方英寸數(shù)據(jù)存儲量可以從目前的1Tb提高到10Tb。權(quán)威機構(gòu)預計,未來五年我國石墨烯產(chǎn)業(yè)將以67.9%的年復合增長率持續(xù)增長,2023年有望突破3700億元。
石墨烯旗艦計劃合作伙伴英國劍橋大學、瑞士洛桑聯(lián)邦理工學院(EPFL)等機構(gòu)和美國阿貢國家實驗室的研究人員共同合作,證明石墨烯可用于生產(chǎn)機械硬盤(HDD)。這項技術(shù)可能帶來超高密度磁性數(shù)據(jù)存儲技術(shù)的進步:單位平方英寸數(shù)據(jù)存儲量可以從目前的1Tb提高到10Tb。權(quán)威機構(gòu)預計,未來五年我國石墨烯產(chǎn)業(yè)將以67.9%的年復合增長率持續(xù)增長,2023年有望突破3700億元。相關概念股有沃特股份、中國寶安等。
硬盤包含兩個主要部件:盤片和磁頭。數(shù)據(jù)是通過磁頭寫在盤片上的,磁頭在盤片旋轉(zhuǎn)時在上面移動。磁頭和盤片之間的空間不斷縮小,以實現(xiàn)更高的密度。目前,碳基外涂層(COCs)——用于保護盤片免受機械損傷和腐蝕的層——占據(jù)了這個空間的很大一部分。自1990年以來,機械硬盤的數(shù)據(jù)密度已經(jīng)翻了兩番,外涂層的厚度從12.5納米減少到約3納米,數(shù)據(jù)密度可以達到1Tb/in2。然而,要想在數(shù)據(jù)存儲方面有明顯的改善,達到10Tb/in2的密度,就必須使COCs的厚度小于1nm。
由于目前的涂層在2納米以下就失去了大部分吸引人的特性,研究人員用1至4層石墨烯取代了它們,并測試了涂層的摩擦、磨損、腐蝕、熱穩(wěn)定性和潤滑劑兼容性。除了無與倫比的薄度,石墨烯還滿足了硬盤外涂層的所有理想特性:防腐蝕、低摩擦、耐磨損、硬度、潤滑劑兼容性和表面光滑度。研究人員驗證了石墨烯能夠使摩擦力減少兩倍,并且比最先進的COC涂層更耐腐蝕和磨損。單層石墨烯可減少2.5倍的腐蝕,多層石墨烯顯示出優(yōu)異的性能,磨損率降低了三個數(shù)量級。
1-4層石墨烯是通過化學氣相沉積(CVD)生長出來的,并被轉(zhuǎn)移到目前硬盤技術(shù)中使用的Co-alloy硬盤基材上。石墨烯旗艦項目的研究人員還將石墨烯轉(zhuǎn)移到由鐵鉑合金(FePt)制成的硬盤上作為磁記錄層,以測試熱輔助磁記錄(HAMR)--一種新的磁存儲技術(shù),通過將記錄層加熱到高溫,使其存儲密度比目前的要高很多。目前的COC不能經(jīng)受住HAMR的高溫,但穩(wěn)定性測試證實,石墨烯可以經(jīng)受住類似HAMR的條件,而不會發(fā)生退化。因此,基于石墨烯的外涂層與創(chuàng)新技術(shù)結(jié)合使用,如HAMR和比特圖案化磁記錄(BPM)--一種將磁介質(zhì)圖案化為小柱子的方法,可實現(xiàn)高面積密度--預計將超過目前的HDD,提供前所未有的10Tb/in2或更高的數(shù)據(jù)密度。
石墨烯此前首先被寄予厚望的應用是柔性電子學領域。電子產(chǎn)品中廣泛使用的透明導電涂層,對材料的要求是極低的面電阻和極高的透光率,這正是石墨烯的優(yōu)勢所在,石墨烯材料的面電阻可以低至~30 Ω/□,透光率高達 97.7% ,同時還有非常好的力學彈性和化學穩(wěn)定性,因此被認為是目前主流使用的銦錫氧化物(ITO)的潛在替代品。石墨烯在光子學器件上也可以大有作為,比如石墨烯光電探測器目前就是其中的一個研究熱點。相比于傳統(tǒng)的半導體光電探測器只能探測有限的波寬,石墨烯的探測波寬更寬,從紫外到紅外都可以。此外,石墨烯可操作帶寬也很高,使得它可以用于高速信息傳輸。
根據(jù)石墨烯的宏觀形態(tài),可以大致分為粉體和薄膜兩類。石墨烯粉體是指納米及微米尺寸的石墨烯片(graphene nanoflake)無序聚集體,主要通過液相剝離法、氧化還原法等方法制備。石墨烯薄膜是在特定基底表面生長的,或生長形成后被轉(zhuǎn)移到其他基底上的連續(xù)石墨烯材料,微觀上因為制備工藝的局限性可能局部不連續(xù)(稱為缺陷),宏觀上尺寸可達到厘米甚至米量級,主要通過化學氣相沉積法、機械剝離法等方法制備。相比于石墨烯粉體,薄膜的優(yōu)勢是連續(xù)性和厚度均一性,也更能表征出石墨烯優(yōu)越的物理化學性能。
大批量、低成本的生產(chǎn)高質(zhì)量的石墨烯材料是實現(xiàn)石墨烯應用產(chǎn)業(yè)化的前提條件。目前,石墨烯的制備可以大致被歸納為兩類技術(shù)路徑,一類是自上而下的方法,即從石墨本身獲得石墨烯(又稱為石墨路徑),一類是自下而上的方法,從含碳化合物制備石墨烯(又稱為碳原子路徑)。
石墨烯的產(chǎn)業(yè)化正在快速發(fā)展,然而亟需關鍵技術(shù)突破以及產(chǎn)業(yè)政策正確引導。一方面,市場上現(xiàn)存石墨烯產(chǎn)品質(zhì)量不理想,高品質(zhì)的石墨烯制備難度高、工藝亟待突破,另一方面,全國多個省市出現(xiàn)了石墨烯產(chǎn)業(yè)發(fā)展浪潮,石墨烯的產(chǎn)能在快速增長,甚至出現(xiàn)了產(chǎn)業(yè)發(fā)展過熱的情況,亟需頂層政策正確引導。欲了解更多石墨烯行業(yè)發(fā)展分析,可點擊中研普華《2021-2026年版石墨烯產(chǎn)品入市調(diào)查研究報告》
2021-2026年版石墨烯產(chǎn)品入市調(diào)查研究報告
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