2024年光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀及重點(diǎn)企業(yè)分析

• 馮少杰 2024年4月2日 來(lái)源：中研網(wǎng) 1354 89
• 繁體

近年來(lái)，光刻機(jī)市場(chǎng)呈現(xiàn)出穩(wěn)步增長(zhǎng)趨勢(shì)。受益于下游晶圓市場(chǎng)的巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的快速發(fā)展，光刻機(jī)銷(xiāo)售額與銷(xiāo)量增速穩(wěn)定提升。

光刻機(jī)是半導(dǎo)體芯片生產(chǎn)過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于將電路圖案從掩模上轉(zhuǎn)移到硅片上，實(shí)現(xiàn)芯片的功能。光刻機(jī)在半導(dǎo)體芯片制造中扮演著至關(guān)重要的角色，其技術(shù)水平和性能直接影響到芯片制造的精度和效率。

光刻機(jī)行業(yè)是一個(gè)高度技術(shù)密集和資本密集的行業(yè)，涉及精密機(jī)械、光學(xué)、電子、化學(xué)等多個(gè)領(lǐng)域。隨著集成電路制造工藝的逐步升級(jí)和先進(jìn)微電子器件的不斷涌現(xiàn)，光刻技術(shù)也得到了迅猛發(fā)展。

近年來(lái)，光刻機(jī)市場(chǎng)呈現(xiàn)出穩(wěn)步增長(zhǎng)趨勢(shì)。受益于下游晶圓市場(chǎng)的巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的快速發(fā)展，光刻機(jī)銷(xiāo)售額與銷(xiāo)量增速穩(wěn)定提升。

光刻機(jī)行業(yè)現(xiàn)狀分析

在全球半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)迎來(lái)復(fù)蘇的大背景下，下游晶圓市場(chǎng)的巨大需求、服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的蓬勃發(fā)展，共同推動(dòng)了相關(guān)芯片需求的激增。自2020年以來(lái)，光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備，其銷(xiāo)售額與銷(xiāo)量增速均呈現(xiàn)出穩(wěn)定提升的趨勢(shì)。

據(jù)中研普華研究院撰寫(xiě)的《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》顯示，2022年全球光刻機(jī)銷(xiāo)量達(dá)到了510臺(tái)，這一數(shù)字充分反映了全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)光刻機(jī)設(shè)備的旺盛需求。而隨著下游市場(chǎng)需求的持續(xù)升高，預(yù)計(jì)2023年全球光刻機(jī)市場(chǎng)仍將持續(xù)增長(zhǎng)。據(jù)業(yè)內(nèi)預(yù)測(cè)，今年全球光刻機(jī)銷(xiāo)量有望達(dá)到564臺(tái)，進(jìn)一步彰顯出半導(dǎo)體行業(yè)的強(qiáng)勁發(fā)展勢(shì)頭。

圖表：2018-2023年全球光刻機(jī)銷(xiāo)量情況

光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造工藝中的核心設(shè)備，其技術(shù)水平和性能直接影響到芯片制造的精度和效率。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和市場(chǎng)需求的日益增長(zhǎng)，光刻機(jī)設(shè)備也在不斷升級(jí)和優(yōu)化，以滿足更高精度、更高效率的芯片制造需求。

此外，服務(wù)器云計(jì)算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的快速發(fā)展，為光刻機(jī)市場(chǎng)提供了廣闊的應(yīng)用空間。云計(jì)算和5G技術(shù)的普及，使得大數(shù)據(jù)處理、人工智能等應(yīng)用得以快速發(fā)展，進(jìn)而推動(dòng)了芯片需求的不斷增長(zhǎng)。這也為光刻機(jī)等半導(dǎo)體設(shè)備制造商提供了更多的發(fā)展機(jī)遇。

中國(guó)光刻機(jī)重點(diǎn)企業(yè)

1.上海微電子裝備有限公司

該公司自主研發(fā)的600系列光刻機(jī)，已成功實(shí)現(xiàn)90nm工藝的量產(chǎn)，并且在努力突破技術(shù)瓶頸，預(yù)計(jì)不久將交付第一臺(tái)28nm工藝的國(guó)產(chǎn)沉浸式光刻機(jī)。上海微電子裝備有限公司憑借其在光刻機(jī)領(lǐng)域的深厚積累和持續(xù)創(chuàng)新，為中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出了重要貢獻(xiàn)。

2.北京華卓精科科技股份有限公司

華卓精科的雙臺(tái)系列光刻機(jī)主要應(yīng)用于65nm及以下節(jié)點(diǎn)的ArF干式、浸沒(méi)式步進(jìn)掃描光刻機(jī)等高端領(lǐng)域。公司憑借其在精密光學(xué)和精密機(jī)械領(lǐng)域的強(qiáng)大研發(fā)實(shí)力，不斷推動(dòng)國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)向更高精度、更高效率邁進(jìn)。

3.北京科益虹源光電技術(shù)有限公司

科益虹源專(zhuān)注于光刻用激光器的研發(fā)和生產(chǎn)，其產(chǎn)品包括248nm準(zhǔn)分子激光器、光刻用干式193nm準(zhǔn)分子激光器和光刻用浸沒(méi)式193nm準(zhǔn)分子激光器等。這些激光器是光刻機(jī)的核心部件，科益虹源的技術(shù)突破為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的發(fā)展提供了有力支撐。

4.長(zhǎng)春國(guó)科精密光學(xué)技術(shù)有限公司

國(guó)科精密光學(xué)致力于高端光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)、日盲紫外探測(cè)模組以及高端光學(xué)檢測(cè)產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)。其產(chǎn)品在光刻機(jī)領(lǐng)域具有廣泛的應(yīng)用，為提升國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)的性能和質(zhì)量發(fā)揮了重要作用。

5.北京國(guó)望光學(xué)科技有限公司

國(guó)望光學(xué)成功研發(fā)了我國(guó)首套90nm節(jié)點(diǎn)ArF投影光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)和110nm節(jié)點(diǎn)KrF光刻機(jī)曝光光學(xué)系統(tǒng)。這些系統(tǒng)的成功研制，標(biāo)志著我國(guó)在高端光刻機(jī)曝光光學(xué)技術(shù)方面取得了重大突破。

6.浙江啟爾機(jī)電技術(shù)有限公司

啟爾機(jī)電專(zhuān)注于流體凈化、流體測(cè)量和流體控制技術(shù)的研發(fā)，特別是在光刻機(jī)浸液系統(tǒng)方面取得了顯著成果。其浸液系統(tǒng)的高精度和穩(wěn)定性，為提升光刻機(jī)的工藝精度和可靠性提供了重要保障。

7.東方晶源微電子科技公司

東方晶源微電子科技公司專(zhuān)注于20納米以下極大規(guī)模半導(dǎo)體芯片制程的電子束圖像檢測(cè)裝備和綜合優(yōu)化系統(tǒng)的研發(fā)與生產(chǎn)。其高速高精度的檢測(cè)系統(tǒng)為光刻機(jī)等關(guān)鍵工序提供了重要的質(zhì)量保障，有力推動(dòng)了中國(guó)半導(dǎo)體制造技術(shù)的進(jìn)步。

更多光刻機(jī)行業(yè)深度分析，請(qǐng)點(diǎn)擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》。

• 相關(guān)深度報(bào)告REPORTS

  

  2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告

  光刻機(jī)行業(yè)研究報(bào)告中的光刻機(jī)行業(yè)數(shù)據(jù)分析以權(quán)威的國(guó)家統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)為基礎(chǔ)，采用宏觀和微觀相結(jié)合的分析方式，利用科學(xué)的統(tǒng)計(jì)分析方法，在描述行業(yè)概貌的同時(shí)，對(duì)光刻機(jī)行業(yè)進(jìn)行細(xì)化分析，重點(diǎn)企業(yè)...

  查看詳情

延伸閱讀

推薦閱讀

猜您喜歡