電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及市場(chǎng)現(xiàn)狀分析

• 曾燕 2023年6月20日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 279 10
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電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及市場(chǎng)現(xiàn)狀如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束設(shè)備在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢(shì)。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及市場(chǎng)現(xiàn)狀分析

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)及市場(chǎng)現(xiàn)狀如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束設(shè)備在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢(shì)。最先進(jìn)的激光制版系統(tǒng)，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產(chǎn)線的掩模版，但對(duì)特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統(tǒng)來制作，特別是用于光學(xué)光刻中的銘版制造。

全球電子束曝光系(Electron Beam Lithography System，EBL)主要廠商有Raith、ADVANTEST、JEOL、Elionix、Crestec等，全球前三大廠商共占有大約70%的市場(chǎng)份額。中國(guó)是全球最大的電子束曝光系統(tǒng)市場(chǎng)，占有大約22%的市場(chǎng)份額，之后是北美和歐洲市場(chǎng)，二者各占有大約20%的份額。

電子束裝備主要由束流產(chǎn)生裝置、束流加速裝置、束流引出裝置、輻射場(chǎng)形成裝置、控制裝置等構(gòu)成。按照加速原理來劃分，電子束設(shè)備輻照裝置可以分為直流高壓型、高頻諧振型兩大類;按照能量來劃分，電子束設(shè)備輻照裝置可以分為低能型、中能型、高能型等。

因?yàn)殡娮邮怯呻娮咏?jīng)過匯集成束，本身具有高能量密度，目前的應(yīng)用方式主要還是用于消毒殺菌、工業(yè)焊接、探測(cè)檢測(cè)。具體來看，電子束的相關(guān)裝備，已廣泛應(yīng)用于表面固化、焊接、醫(yī)療衛(wèi)生、工業(yè)無(wú)損檢測(cè)、食品輻照與保鮮、大型安全檢測(cè)系統(tǒng)、半導(dǎo)體光刻等領(lǐng)域。

由于技術(shù)、資金、資質(zhì)、品牌壁壘的存在，我國(guó)的電子束裝備行業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模整體偏小，國(guó)內(nèi)參與企業(yè)較少，雖然在部分領(lǐng)域占據(jù)優(yōu)勢(shì)，例如處理工業(yè)廢水。

但是競(jìng)爭(zhēng)力整體偏弱，國(guó)外品牌大量進(jìn)入中國(guó)市場(chǎng)，例如醫(yī)療衛(wèi)生領(lǐng)域，像IBA、醫(yī)科達(dá)等國(guó)外品牌占據(jù)了放療設(shè)備的90%左右的市場(chǎng);在核醫(yī)療影像設(shè)備市場(chǎng)，則由西門子、通用等品牌占據(jù)，占比高達(dá)95%。

在市場(chǎng)驅(qū)動(dòng)下，近些年加速器技術(shù)創(chuàng)新水平有較大提高，新產(chǎn)品不斷投入運(yùn)行，推動(dòng)國(guó)內(nèi)整個(gè)行業(yè)產(chǎn)品不斷升級(jí)。國(guó)外企業(yè)的進(jìn)入加速了國(guó)內(nèi)加速器裝備生產(chǎn)能力的增長(zhǎng)，國(guó)外著名廠家日新、IBA等先后進(jìn)入國(guó)內(nèi)市場(chǎng)，同時(shí)，國(guó)內(nèi)企業(yè)也開始向國(guó)外銷售加速器產(chǎn)品，參與國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)，為國(guó)內(nèi)加速器產(chǎn)業(yè)發(fā)展注入新的動(dòng)力。

世界電子束裝備市場(chǎng)的規(guī)模在不斷擴(kuò)大，世界電子束裝備市場(chǎng)的規(guī)模從2014年的19.5億美元增長(zhǎng)至2020年的30.6億美元，2021年持續(xù)增長(zhǎng)至33.5億美元，主要系電子束裝備全球下游應(yīng)用領(lǐng)域需求增加，預(yù)計(jì)推動(dòng)全球電子束裝備市場(chǎng)繼續(xù)收入增長(zhǎng)。

國(guó)際電子束裝備市場(chǎng)集中程度較高，少數(shù)大公司在國(guó)際市場(chǎng)上的優(yōu)勢(shì)明顯，資金實(shí)力、技術(shù)和管理水平遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于發(fā)展中國(guó)家的企業(yè)，在技術(shù)資本密集型的高端產(chǎn)品上形成壟斷。

從總的格局來看，未來國(guó)際電子束裝備市場(chǎng)將呈現(xiàn)明顯的“金字塔”形狀。其中，發(fā)達(dá)國(guó)家的知名跨國(guó)電子束裝備承包商位于金字塔的頂端部位，是國(guó)際電子束裝備市場(chǎng)的巨頭，而發(fā)展中國(guó)家和新興工業(yè)化國(guó)家的電子束裝備企業(yè)總體上處于金字塔的下端，所占比重相對(duì)較少。

為了提高競(jìng)爭(zhēng)能力，越來越多的電子束裝備企業(yè)將走向合作的道路，跨國(guó)兼并活動(dòng)不斷增多，國(guó)際電子束裝備市場(chǎng)的集中程度隨之不斷提高，金字塔的頂端更加尖銳。從市場(chǎng)結(jié)構(gòu)看，無(wú)論是公司數(shù)量，還是所占市場(chǎng)份額，發(fā)達(dá)國(guó)家在國(guó)際電子束裝備市場(chǎng)都將占有絕對(duì)優(yōu)勢(shì)，包括美國(guó)、加拿大、歐洲和日本在內(nèi)的發(fā)達(dá)國(guó)家。這種發(fā)展趨勢(shì)對(duì)后來居上的發(fā)展中國(guó)家電子束裝備企業(yè)提出了新的挑戰(zhàn)。總體來看，我國(guó)電子束裝備企業(yè)的整體實(shí)力居于整個(gè)金字塔的中部，面臨發(fā)達(dá)國(guó)家巨頭及其他眾多發(fā)展中國(guó)家企業(yè)的雙重壓力。與國(guó)際頂尖企業(yè)相比，按照現(xiàn)有的產(chǎn)業(yè)實(shí)力，我國(guó)電子束裝備企業(yè)在技術(shù)等方面仍存在著較大差距，在高技術(shù)、高附加值的項(xiàng)目上與發(fā)達(dá)國(guó)家的大型企業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)仍處于劣勢(shì)。另外，我國(guó)電子束裝備企業(yè)平均經(jīng)營(yíng)規(guī)模明顯偏小，在規(guī)模上處于比較劣勢(shì)。隨著未來高端產(chǎn)品、高附加值產(chǎn)品比重加大、技術(shù)和管理要求提高，我國(guó)電子束裝備企業(yè)拓展國(guó)際市場(chǎng)的難度也在逐步加大。

據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院出版的《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展策略研究報(bào)告》統(tǒng)計(jì)分析顯示：

電子束曝光(electron beam lithography)指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。電子束曝光系統(tǒng)(electron beam lithography system)即用于實(shí)現(xiàn)電子束曝光的系統(tǒng)。

電子束曝光系統(tǒng)是集成電路微納器件以及航天、衛(wèi)星、軍工等特種芯片和半導(dǎo)體精密掩膜制造的關(guān)鍵技術(shù)，是微電子、微機(jī)械、微納米光學(xué)研究的必配設(shè)備。

第一節(jié) 中國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

近年來，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺(tái)，同比增長(zhǎng)12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長(zhǎng)18.40%。

圖表：2018-2021年中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

第二節(jié) 美國(guó)市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年美國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為268臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了5.10%;產(chǎn)值約為2.29億美元，較2020年增長(zhǎng)了6.02%。

圖表：2018-2021年美國(guó)電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量和產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

第三節(jié) 歐洲市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為1364臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了6.98%;產(chǎn)值約為14.14億美元，較2020年增長(zhǎng)了12.67%。

圖表：2018-2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

第四節(jié) 日本市場(chǎng)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)2018-2021年產(chǎn)量、產(chǎn)值及增長(zhǎng)率

據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年日本電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為791臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了2.06%;產(chǎn)值約為6.87億美元，較2020年增長(zhǎng)了3.0%。

圖表：2018-2021年日本電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

隨著電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷加劇，大型企業(yè)間并購(gòu)整合與資本運(yùn)作日趨頻繁，國(guó)內(nèi)外優(yōu)秀的電子束曝光系統(tǒng)(EBL)企業(yè)愈來愈重視對(duì)行業(yè)市場(chǎng)的分析研究，特別是對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)環(huán)境和客戶需求趨勢(shì)變化的深入研究，以期提前占領(lǐng)市場(chǎng)，取得先發(fā)優(yōu)勢(shì)。正因?yàn)槿绱?，一大批?yōu)秀品牌迅速崛起，逐漸成為行業(yè)中的翹楚。中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對(duì)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務(wù)，最大限度地降低客戶投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營(yíng)成本，把握投資機(jī)遇，提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

本報(bào)告利用中研普華長(zhǎng)期對(duì)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)跟蹤搜集的一手市場(chǎng)數(shù)據(jù)，同時(shí)依據(jù)國(guó)家統(tǒng)計(jì)局、國(guó)家商務(wù)部、國(guó)家發(fā)改委、國(guó)務(wù)院發(fā)展研究中心、行業(yè)協(xié)會(huì)、中國(guó)行業(yè)研究網(wǎng)、全國(guó)及海外專業(yè)研究機(jī)構(gòu)提供的大量權(quán)威資料，采用與國(guó)際同步的科學(xué)分析模型，全面而準(zhǔn)確地為您從行業(yè)的整體高度來架構(gòu)分析體系。讓您全面、準(zhǔn)確地把握整個(gè)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)的市場(chǎng)走向和發(fā)展趨勢(shì)。

未來行業(yè)市場(chǎng)發(fā)展前景和投資機(jī)會(huì)在哪?欲了解更多關(guān)于行業(yè)具體詳情可以點(diǎn)擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的報(bào)告《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展策略研究報(bào)告》。報(bào)告對(duì)行業(yè)相關(guān)各種因素進(jìn)行具體調(diào)查、研究、分析，洞察行業(yè)今后的發(fā)展方向、行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)格局的演變趨勢(shì)以及技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)、市場(chǎng)規(guī)模、潛在問題與行業(yè)發(fā)展的癥結(jié)所在，評(píng)估行業(yè)投資價(jià)值、效果效益程度，提出建設(shè)性意見建議，為行業(yè)投資決策者和企業(yè)經(jīng)營(yíng)者提供參考依據(jù)。

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  2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)（EBL）行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展策略研究報(bào)告

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