光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)：未來(lái)幾年內(nèi)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)升級(jí)

• 郭夢(mèng) 2023年11月12日 來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 1206 78
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光刻機(jī)是芯片制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備之一，其作用是將電路圖案轉(zhuǎn)移到芯片表面。隨著國(guó)內(nèi)芯片制造業(yè)的快速發(fā)展，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)行業(yè)也得到了迅速發(fā)展。目前，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)主要包括上海微電子、南方測(cè)繪、華卓精科等，其中上海微電子的市場(chǎng)份額最大。

光刻機(jī)是芯片制造過(guò)程中的關(guān)鍵設(shè)備之一，其作用是將電路圖案轉(zhuǎn)移到芯片表面。隨著國(guó)內(nèi)芯片制造業(yè)的快速發(fā)展，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)行業(yè)也得到了迅速發(fā)展。目前，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)主要包括上海微電子、南方測(cè)繪、華卓精科等，其中上海微電子的市場(chǎng)份額最大。

光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。為了避免在芯片產(chǎn)能爬坡時(shí)被外界的設(shè)備供應(yīng)給“卡脖子”，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)正在加快突破。

中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈上游為材料、設(shè)備及組件;中游為不同類型光刻機(jī)，包括有掩膜光刻機(jī)和無(wú)掩膜光刻機(jī);下游為應(yīng)用領(lǐng)域，包括芯片制作、芯片封裝、功率器件制造、LED、MEMS制造。

隨著國(guó)內(nèi)芯片制造業(yè)的快速發(fā)展和技術(shù)的不斷進(jìn)步，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展前景十分廣闊。同時(shí)，國(guó)家對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支持政策也將為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)行業(yè)帶來(lái)更多的發(fā)展機(jī)遇。未來(lái)幾年，國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)企業(yè)將繼續(xù)加大投入，提升技術(shù)水平，加強(qiáng)自主創(chuàng)新和產(chǎn)業(yè)協(xié)同，積極拓展高端市場(chǎng)，實(shí)現(xiàn)進(jìn)口替代。

盡管中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)前景廣闊，但也面臨著諸多挑戰(zhàn)。首先，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)在技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品質(zhì)量等方面與國(guó)際領(lǐng)先企業(yè)仍存在一定差距。其次，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)競(jìng)爭(zhēng)激烈，技術(shù)更新?lián)Q代速度加快，光刻機(jī)企業(yè)需要不斷加大研發(fā)投入，以保持競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)。此外，國(guó)際貿(mào)易摩擦也對(duì)全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生了影響，使得中國(guó)光刻機(jī)企業(yè)在國(guó)際競(jìng)爭(zhēng)中面臨一定壓力。

據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報(bào)告《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》分析

從國(guó)內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的短期維度看，因?yàn)樾酒圃鞎?huì)使用多種光刻機(jī)，對(duì)于中低階機(jī)型需求穩(wěn)定，國(guó)產(chǎn)廠商有望在中低階領(lǐng)域快速提升份額。在芯片制造過(guò)程中，一般核心芯片關(guān)鍵層使用先進(jìn)機(jī)型，金屬層線寬更寬，故可以使用傳統(tǒng)成熟機(jī)型優(yōu)化成本結(jié)構(gòu)。雖然短期內(nèi)國(guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)主要集中于DUV光刻機(jī)覆蓋的制程，但相關(guān)機(jī)構(gòu)預(yù)計(jì)中低階機(jī)型需求保持穩(wěn)定，考慮到市場(chǎng)已較為成熟，國(guó)內(nèi)外產(chǎn)品性能參數(shù)接近，且下游客戶推進(jìn)供應(yīng)鏈國(guó)產(chǎn)化意愿強(qiáng)烈，國(guó)產(chǎn)廠商有望快速提升份額。

目前國(guó)內(nèi)以上海微電子為首的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈已初具雛形，全產(chǎn)業(yè)鏈均在快速發(fā)展。除光刻機(jī)整機(jī)集成外，還包括光源、物鏡與照明系統(tǒng)、雙工件臺(tái)、浸沒系統(tǒng)等關(guān)鍵組成部分，與顯影涂膠及量測(cè)檢測(cè)的配套設(shè)備均在快速成長(zhǎng)。

光刻機(jī)行業(yè)的盈利模式主要包括以下幾種：

設(shè)計(jì)和制造高精度、高分辨率的光刻機(jī)設(shè)備，通過(guò)直銷或代理商模式銷售給芯片制造商和封裝測(cè)試廠商。

提供光刻機(jī)相關(guān)的技術(shù)支持和售后服務(wù)，通過(guò)技術(shù)許可模式獲取收入。

生產(chǎn)光源、探測(cè)器等光刻機(jī)核心部件，通過(guò)向下游廠商供應(yīng)產(chǎn)品獲取收入。

光刻機(jī)行業(yè)的競(jìng)爭(zhēng)格局相對(duì)分散，全球市場(chǎng)主要由以下幾家企業(yè)占據(jù)：

日本：佳能、尼康、東京電子等企業(yè)。

美國(guó)：應(yīng)用材料、amat、Lam Research等企業(yè)。

中國(guó)：中芯國(guó)際、華虹宏力、長(zhǎng)電科技等企業(yè)。

其他：如歐洲的ASML、南韓的三星電子等企業(yè)。

光刻機(jī)行業(yè)發(fā)展趨勢(shì)

隨著5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等技術(shù)的快速發(fā)展，半導(dǎo)體行業(yè)迎來(lái)了新的發(fā)展機(jī)遇。光刻機(jī)作為半導(dǎo)體制造的核心設(shè)備，也將受益于這一趨勢(shì)。此外，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在經(jīng)歷結(jié)構(gòu)性調(diào)整，中國(guó)作為全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng)，有望在未來(lái)幾年內(nèi)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)升級(jí)，為光刻機(jī)市場(chǎng)提供更多機(jī)遇。

未來(lái)幾年，中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)有望繼續(xù)保持快速發(fā)展態(tài)勢(shì)。一方面，隨著國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)不斷升級(jí)，對(duì)光刻機(jī)的需求將逐漸增加。另一方面，國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)在技術(shù)研發(fā)、產(chǎn)品質(zhì)量等方面不斷取得突破，將進(jìn)一步推動(dòng)中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)的發(fā)展。同時(shí)，政府將繼續(xù)加大對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的支持力度，為光刻機(jī)企業(yè)的發(fā)展提供更多政策利好。

光刻機(jī)行業(yè)研究報(bào)告旨在從國(guó)家經(jīng)濟(jì)和產(chǎn)業(yè)發(fā)展的戰(zhàn)略入手，分析光刻機(jī)未來(lái)的政策走向和監(jiān)管體制的發(fā)展趨勢(shì)，挖掘光刻機(jī)行業(yè)的市場(chǎng)潛力，基于重點(diǎn)細(xì)分市場(chǎng)領(lǐng)域的深度研究，提供對(duì)產(chǎn)業(yè)規(guī)模、產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)、區(qū)域結(jié)構(gòu)、市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)、產(chǎn)業(yè)盈利水平等多個(gè)角度市場(chǎng)變化的生動(dòng)描繪，清晰發(fā)展方向。

欲了解更多關(guān)于光刻機(jī)行業(yè)的市場(chǎng)數(shù)據(jù)及未來(lái)行業(yè)投資前景，可以點(diǎn)擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)院研究報(bào)告《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》。

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  2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告

  光刻機(jī)研究報(bào)告對(duì)光刻機(jī)行業(yè)研究的內(nèi)容和方法進(jìn)行全面的闡述和論證，對(duì)研究過(guò)程中所獲取的光刻機(jī)資料進(jìn)行全面系統(tǒng)的整理和分析，通過(guò)圖表、統(tǒng)計(jì)結(jié)果及文獻(xiàn)資料，或以縱向的發(fā)展過(guò)程，或橫向類別...

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