一、半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)簡介

半導(dǎo)體清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造過程中的關(guān)鍵設(shè)備，其主要功能是去除硅片制造、晶圓制造和封裝測試過程中可能存在的各種雜質(zhì)，如顆粒、自然氧化層、金屬污染、有機(jī)物、犧牲層、拋光殘留物等，以避免這些雜質(zhì)影響芯片的良率和產(chǎn)品性能。隨著半導(dǎo)體制造工藝技術(shù)的不斷提升，芯片尺寸不斷縮小，對雜質(zhì)敏感度提升，清洗步驟也在不斷增加，90nm的芯片清洗工藝約90道，20nm的清洗工藝則達(dá)到了215道，目前清洗步驟占整個半導(dǎo)體工藝所有步驟約1/3，幾乎所有制作過程前后都需要清洗，為清洗設(shè)備帶來了廣闊的增長空間。

根據(jù)清洗介質(zhì)的不同，半導(dǎo)體清洗技術(shù)可以分為濕法清洗和干法清洗兩種。目前濕法清洗為主流的清洗技術(shù)，占總清洗步驟的90%以上。濕法清洗是根據(jù)不同的工藝需求，主要是通過去離子水、清洗劑等對晶圓表面進(jìn)行無損傷清洗，以去除晶圓制造過程中的雜質(zhì)。干法清洗是指不使用化學(xué)溶劑，采用氣態(tài)的氫氟酸刻蝕不規(guī)則分布的有結(jié)構(gòu)的晶圓二氧化硅層，雖然具有對不同薄膜有高選擇比的優(yōu)點，但可清洗污染物比較單一，目前主要在28nm及以下技術(shù)節(jié)點的邏輯產(chǎn)品和存儲產(chǎn)品有應(yīng)用。根據(jù)清洗方法的不同，濕法清洗包括溶液浸泡法、機(jī)械刷洗法、二流體清洗、超聲波清洗、兆聲波清洗、批式旋轉(zhuǎn)噴淋法六種方法，干法清洗包括等離子清洗、氣相清洗和束流清洗三種方法。

二、半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)分類

目前主流的濕法清洗設(shè)備主要包括單片清洗設(shè)備、槽式清洗設(shè)備、組合式清洗設(shè)備和批式旋轉(zhuǎn)噴淋清洗設(shè)備等，其中單片清洗設(shè)備市場份額占比最高。濕法清洗工藝路線下主流的清洗設(shè)備存在先進(jìn)程度的區(qū)分，主要體現(xiàn)在可清洗顆粒大小、金屬污染、腐蝕均一性以及干燥技術(shù)等標(biāo)準(zhǔn)。

三、中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

隨著國內(nèi)企業(yè)核心技術(shù)和工藝能力的提升，以及在客戶認(rèn)證方面的不斷進(jìn)展，未來刻蝕、清洗設(shè)備有望成為顯著受益國內(nèi)市場需求發(fā)展的賽道，成為半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)國產(chǎn)替代的先鋒。中國大陸半導(dǎo)體設(shè)備銷售額前五大廠商為北方華創(chuàng)、中微公司、盛美上海、長川科技、新益昌，清洗設(shè)備廠商主要有盛美上海、北方華創(chuàng)、芯源微、至純科技和提?？萍嫉?，產(chǎn)業(yè)集中度較高。數(shù)據(jù)顯示，2023年國內(nèi)半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模約為18億美元。

圖表：2021-2023年中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)市場規(guī)模

四、中國半導(dǎo)體清洗設(shè)備行業(yè)重點廠商

中國大陸從事半導(dǎo)體清洗設(shè)備的企業(yè)有盛美上海、北方華創(chuàng)、芯源微、至純科技和提?？萍肌?/p>

（1）盛美上海

盛美上海是中國大陸半導(dǎo)體濕法設(shè)備龍頭企業(yè)，產(chǎn)品主要分為半導(dǎo)體清洗設(shè)備、半導(dǎo)體電鍍設(shè)備和先進(jìn)封裝濕法設(shè)備三大類，其中半導(dǎo)體清洗設(shè)備收入占全部主營業(yè)務(wù)收入的比例最高，其主要產(chǎn)品為集成電路領(lǐng)域的單片清洗設(shè)備，其中包括單片SAPS兆聲波清洗設(shè)備、單片TEBO兆聲波清洗設(shè)備、單片背面清洗設(shè)備、單片前道刷洗設(shè)備、槽式清洗設(shè)備、單片槽式組合清洗設(shè)備等，產(chǎn)品線較為豐富。

（2）北方華創(chuàng)

北方華創(chuàng)是品類最齊全的國產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備龍頭，主營業(yè)務(wù)包括半導(dǎo)體設(shè)備、真空設(shè)備和電子元器件等，其半導(dǎo)體業(yè)務(wù)覆蓋了刻蝕、沉積、清洗等主要半導(dǎo)體制造設(shè)備，產(chǎn)品體系豐富，在半導(dǎo)體清洗設(shè)備領(lǐng)域的主要產(chǎn)品包括單片清洗設(shè)備及全自動槽式清洗設(shè)備，其12英寸單片清洗機(jī)采用單片晶圓旋轉(zhuǎn)濕法清洗技術(shù)，此設(shè)備具有清洗選擇性好、清洗效率高等技術(shù)，包括化學(xué)藥液保護(hù)系統(tǒng)、管路防靜電系統(tǒng)、兆聲波系統(tǒng)等，在保證不損傷產(chǎn)品本身結(jié)構(gòu)的前提下，選擇性的清洗殘留物。

《2024-2029年中國半導(dǎo)體設(shè)備行業(yè)市場分析及發(fā)展前景預(yù)測報告》由中研普華產(chǎn)業(yè)研究院撰寫，本報告對該行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現(xiàn)狀、行業(yè)發(fā)展變化等進(jìn)行了分析，重點分析了行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、如何面對行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競爭力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢預(yù)測等等。報告還綜合了行業(yè)的整體發(fā)展動態(tài)，對行業(yè)在產(chǎn)品方面提供了參考建議和具體解決辦法。