掩膜版市場規(guī)模如何 掩膜版行業(yè)分析報告

• 2022年2月7日 YeYuJuan來源：互聯網 1098 70
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光掩模具有十分高的技術門檻，導致光掩模市場集中度高，寡頭壟斷嚴重， Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據80%以上的市場份額。由于國外企業(yè)長期對光掩模的生產技術和設備嚴格保密，目前國產光掩模只能應用在低端市場，高端光掩

掩膜版是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結構，再通過曝光過程將圖形信息轉移到產品基片上。掩膜上承載著設計圖形，光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻，掩膜不直接與晶圓表面接觸。

掩膜版市場規(guī)模如何 掩膜版行業(yè)分析報告

隨著下游行業(yè)的技術更新升級，掩膜版行業(yè)也涌現出諸多新技術，用以支持更高端產品生產，例如 AMOLED/LTPS 用掩膜版生產技術、FMM 用掩膜版生產技術、3D 厚膠生產技術、4K/8K 高分辨率顯示屏掩膜版生產技術以及平板顯示用 HTM、PSM 等先進的掩膜版工藝技術。

近年來，全球光掩膜版市場發(fā)展態(tài)勢較好，行業(yè)規(guī)模持續(xù)擴大，2019年，全球光掩膜版市場規(guī)模達到40億美元左右，受新冠肺炎疫情的影響，2020年，全球光掩膜版市場規(guī)模有所縮減。

掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游電子元器件行業(yè)乃至終端電子消費品行業(yè)的發(fā)展密切相關。下游行業(yè)市場規(guī)模的不斷增長也為本行業(yè)提供了更為廣闊的市場空間。從產業(yè)鏈來看，掩膜版產業(yè)位于電子信息產業(yè)的上游，其主導產品掩膜版是下游電子元器件制造商(平板顯示、半導體芯片、觸控和電路板等行業(yè))生產制造過程中的核心模具，起到橋梁和紐帶的作用，電子元器件制造商的產品則廣泛應用于消費電子、家電、汽車等電子產品領域。

掩膜版行業(yè)作為電子元器件的上游行業(yè)，屬于國家發(fā)展戰(zhàn)略的重要環(huán)節(jié)之一，受國家產業(yè)政策支持，這為掩膜版行業(yè)提供了良好的發(fā)展機遇。 隨著電子信息技術的日新月異，5G 技術和人工智能帶動下游終端電子產品的更新換代速度越來越快，以平板電視、筆記本電腦、數碼相機、智能手機等產品為主的消費類電子產品產銷量持續(xù)增長，為平板顯示、半導體芯片、觸控、電路板等電子元器件相關行業(yè)帶來巨大的市場空間，間接帶動了掩膜版行業(yè)的發(fā)展。

全球掩膜版市場主要由日本凸版印刷(Toppan)、大日本印刷(DNP)、美國福尼克斯(Photronics)、日本豪雅(Hoya)等企業(yè)占據，其中前三家企業(yè)占據全球掩膜版市場約80%的份額。

在半導體領域，除英特爾、三星、臺積電三家全球最先進的晶圓制造廠所用的掩膜版自供外，其它的半導體掩膜版主要被美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷。國內少數企業(yè)如無錫華潤、無錫中微等，只能制造0.13μm以上Stepper Mask。

光掩模具有十分高的技術門檻，導致光掩模市場集中度高，寡頭壟斷嚴重， Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據80%以上的市場份額。由于國外企業(yè)長期對光掩模的生產技術和設備嚴格保密，目前國產光掩模只能應用在低端市場，高端光掩模仍然高度依賴進口。

《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預測報告》對我國掩膜版市場的發(fā)展狀況、供需狀況、競爭格局、贏利水平、發(fā)展趨勢等進行了分析。報告重點分析了掩膜版前十大企業(yè)的研發(fā)、產銷、戰(zhàn)略、經營狀況等。報告還對掩膜版市場風險進行了預測，為掩膜版生產廠家、流通企業(yè)以及零售商提供了新的投資機會和可借鑒的操作模式，對欲在掩膜版行業(yè)從事資本運作的經濟實體等單位準確了解目前中國掩膜版行業(yè)發(fā)展動態(tài)，把握企業(yè)定位和發(fā)展方向有重要參考價值。

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