國內光刻膠需求分析 2022年光刻膠研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

• 2022年10月24日 HuangJiang來源：新浪 1415 93
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隨著各大晶圓廠加速引進EUV制程，研調TECHCET預估，金屬氧化物、干式光刻膠等材料市場將大幅成長，預計2025年市場規(guī)模將從去年的5,000萬美元，增加3倍超過2億美元。

國內光刻膠需求分析。光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。

光刻膠主要應用于半導體、顯示面板和PCB等領域，其中顯示面板用占比27%，PCB和半導體用占比分別為25%和24%。

2022年光刻膠研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢

隨著各大晶圓廠加速引進EUV制程，研調TECHCET預估，金屬氧化物、干式光刻膠等材料市場將大幅成長，預計2025年市場規(guī)模將從去年的5,000萬美元，增加3倍超過2億美元。

近年，電子信息產業(yè)更新?lián)Q代速度加快，疊加半導體、顯示面板產業(yè)東移，國內光刻膠需求快速提升，我國光刻膠市場規(guī)模從2015年的100億元增至2020年的176億元，年均復合增速達12%;據(jù)測算，2022-2025年市場規(guī)模將達222、250、281和316億元，成長空間廣闊。

根據(jù)中研普華研究院《2022-2027年光刻膠產業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》顯示：

光刻膠屬于技術和資本密集型行業(yè)，全球供應市場高度集中，日本JSR等五家龍頭企業(yè)占據(jù)全球光刻膠市場87%的份額，同時海外龍頭也已實現(xiàn)EUV等高端制程量產。

國內光刻膠高端領域逐步突破

我國光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產品，其中PCB光刻膠占比達94%，而TFT-LCD、半導體光刻膠等高端產品仍需大量進口。

近年來，我國政府大力扶持半導體與原料產業(yè)發(fā)展，陸續(xù)出臺了多項政策支持光刻膠行業(yè)發(fā)展，推動產業(yè)大力研發(fā)，突破“卡脖子”技術，早日實現(xiàn)產業(yè)鏈核心技術國產化。

先進制程半導體光刻膠方面，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠國內自給率約為10%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠國內自給率不足5%，適用于12寸硅片的ArF光刻膠國內基本依靠進口，而EUV光刻膠還仍處研發(fā)階段。

想了解光刻膠行業(yè)市場更多相關信息，可點擊中研普華《2022-2027年光刻膠產業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告》。

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  2022-2027年光刻膠產業(yè)深度調研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預測報告

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