近年來(lái)，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺(tái)，同比增長(zhǎng)12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長(zhǎng)18.40%。
電子束曝光是用低功率密度的電子束照射電致抗蝕劑，經(jīng)顯影后在抗蝕劑中產(chǎn)生圖形的一種微細(xì)加工技術(shù)。
光刻技術(shù)的精度受到光子在波長(zhǎng)尺度上的散射影響。使用的光波長(zhǎng)越短，光刻能夠達(dá)到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論，電子是一種波長(zhǎng)極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達(dá)到納米量級(jí)，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時(shí)間長(zhǎng)是它的一個(gè)主要缺點(diǎn)。為了解決這個(gè)問(wèn)題，納米壓印術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。
根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2022年全球與中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場(chǎng)深度研究報(bào)告》顯示：
隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束設(shè)備在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢(shì)。最先進(jìn)的激光制版系統(tǒng)，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來(lái)制作0.18μm，0.15μm生產(chǎn)線的掩模版，但對(duì)特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統(tǒng)來(lái)制作，特別是用于光學(xué)光刻中的銘版制造。
據(jù)不完全統(tǒng)計(jì)，截至2021年底，全球電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)能約為3564臺(tái)，產(chǎn)量約為3411臺(tái)，產(chǎn)能利用率約為95.71%。
近年來(lái)，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長(zhǎng)態(tài)勢(shì)。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年，中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺(tái)，同比增長(zhǎng)12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長(zhǎng)18.40%。
2021年美國(guó)電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為268臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了5.10%;產(chǎn)值約為2.29億美元，較2020年增長(zhǎng)了6.02%。
據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為1364臺(tái)，較2020年增長(zhǎng)了6.98%;產(chǎn)值約為14.14億美元，較2020年增長(zhǎng)了12.67%。
中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)發(fā)展前景分析
隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束設(shè)備在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢(shì)。最先進(jìn)的激光制版系統(tǒng)，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來(lái)制作0.18μm，0.15μm生產(chǎn)線的掩模版，但對(duì)特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統(tǒng)來(lái)制作，特別是用于光學(xué)光刻中的銘版制造。
這種曝光方式分辨率高、掩膜版制作容易、工藝容限大，而且生產(chǎn)效率高，但由于電子束在光刻膠膜內(nèi)的散射，使得圖案的曝光劑量會(huì)受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨近效應(yīng))，造成的結(jié)果是，顯影后，線寬有所變化或圖形畸變。雖然如此，限角度投影式電子束光刻仍是最具前景的非光學(xué)光刻。
中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對(duì)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場(chǎng)海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務(wù)，最大限度地降低客戶投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營(yíng)成本，把握投資機(jī)遇，提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。
了解更多行業(yè)詳情，可以點(diǎn)擊查閱中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的《2022年全球與中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場(chǎng)深度研究報(bào)告》。
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2022年全球與中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場(chǎng)深度研究報(bào)告
在現(xiàn)代市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)活動(dòng)中，信息已經(jīng)是一種重要的經(jīng)濟(jì)資源，信息資源的優(yōu)先占有者勝，反之則處于劣勢(shì)。中國(guó)每年有近百萬(wàn)家企業(yè)倒閉，對(duì)于企業(yè)經(jīng)營(yíng)而言，因?yàn)槭д`而出局，極有可能意味著從此退出歷史...
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2電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)深度調(diào)研分析
3電子束曝光系統(tǒng)市場(chǎng)調(diào)研 2022電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)前景及現(xiàn)狀分析
4電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)能產(chǎn)值?呈增長(zhǎng)態(tài)勢(shì) 中國(guó)電子束曝光系統(tǒng)（EBL）發(fā)展前景分析
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