2023電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場前景及現(xiàn)狀分析

• 劉明月 2023年6月21日 來源：百度百科 中研網(wǎng) 1082 69
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電子束曝光系統(tǒng)(EBL)的消費(fèi)地區(qū)為北美、歐洲、亞太等地區(qū)。亞太地區(qū)在2019年占據(jù)了最大的收入市場份額，約為48%。其次是歐洲和北美，而其他地區(qū)的市場規(guī)模較小。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)的消費(fèi)地區(qū)為北美、歐洲、亞太等地區(qū)。亞太地區(qū)在2019年占據(jù)了最大的收入市場份額，約為48%。其次是歐洲和北美，而其他地區(qū)的市場規(guī)模較小。

在最近的一項(xiàng)研究中，昆士蘭科技大學(xué)的研究團(tuán)隊(duì)首次將電子束曝光(EBL)技術(shù)應(yīng)用于生物納米結(jié)構(gòu)的仿生制造，并取得了重要研究成果。昆士蘭科技大學(xué)Prasad KDV Yarlagadda及其研究團(tuán)隊(duì)對蟬翼的殺菌和細(xì)胞相容特性進(jìn)行了系統(tǒng)研究，并首次使用電子束曝光技術(shù)(EBL)進(jìn)行蟬翼結(jié)構(gòu)的仿生制造，加工出類似的納米錐陣列結(jié)構(gòu)，經(jīng)研究發(fā)現(xiàn)，其同樣具有殺菌和生物相容性。

圖表：2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場規(guī)模預(yù)測

圖表：2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)供應(yīng)情況預(yù)測

圖表：2023-2028年中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)需求情況預(yù)測

據(jù)中研研究院出版的《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)深度分析及投資戰(zhàn)略研究咨詢報(bào)告》顯示：

2023電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場前景及現(xiàn)狀分析

電子束曝光是利用電子束在涂有感光膠的晶片上直接描畫或投影復(fù)印圖形的技術(shù)，它的特點(diǎn)是分辨率高(極限分辨率可達(dá)到3～8μm)、圖形產(chǎn)生與修改容易、制作周期短。它可分為掃描曝光和投影曝光兩大類，其中掃描曝光系統(tǒng)是電子束在工件面上掃描直接產(chǎn)生圖形，分辨率高，生產(chǎn)率低。投影曝光系統(tǒng)實(shí)為電子束圖形復(fù)印系統(tǒng)，它將掩模圖形產(chǎn)生的電子像按原尺寸或縮小后復(fù)印到工件上，因此不僅保持了高分辨率，而且提高了生產(chǎn)率。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。光刻技術(shù)的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達(dá)到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達(dá)到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時(shí)間長是它的一個(gè)主要缺點(diǎn)。為了解決這個(gè)問題，納米壓印術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。

電子束曝光按掃描方式，成形電子束曝光系統(tǒng)又可分為矢量掃描型和光柵掃描型。掃描式電子束曝光系統(tǒng)可以得到極高的分辨率，但其生產(chǎn)率較低，不能滿足大規(guī)模生產(chǎn)的需要。成形束系統(tǒng)生產(chǎn)率固然有所提高，但其分辨率一般在0.2μm左右，難以制作納米級圖形。近年來研發(fā)的投影電子束來曝光系統(tǒng)，既能使曝光分辨率達(dá)到納米量級，又能大大提高生產(chǎn)率，且不需要鄰近效應(yīng)校正。在研制中的投影式電子束曝光系統(tǒng)主要有兩種。

電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術(shù)的延伸應(yīng)用。光刻技術(shù)的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達(dá)到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達(dá)到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時(shí)間長是它的一個(gè)主要缺點(diǎn)。為了解決這個(gè)問題，納米壓印術(shù)應(yīng)運(yùn)而生。

全球電子束曝光系統(tǒng)(EBL)主要廠商有Raith、ADVANTEST、JEOL、Elionix、Crestec等，全球前三大廠商共占有大約70%的市場份額。中國是全球最大的電子束曝光系統(tǒng)市場，占有大約22%的市場份額，之后是北美和歐洲市場，二者各占有大約20%的份額。

全球電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場規(guī)模達(dá)到了11億元，預(yù)計(jì)2026年將達(dá)到14億元，年復(fù)合增長率(CAGR)為7.3%。

據(jù)統(tǒng)計(jì)，歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為1364臺(tái)，較2020年增長了6.98%;產(chǎn)值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。日本電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為791臺(tái)，較2020年增長了2.06%;產(chǎn)值約為6.87億美元，較2020年增長了3.0%。

國內(nèi)電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)前景及現(xiàn)狀發(fā)展如何?隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設(shè)備，在這兩類設(shè)備中，電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢。

近年來，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長態(tài)勢。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2021年，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺(tái)，同比增長12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長18.40%。近年來，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長態(tài)勢。據(jù)統(tǒng)計(jì)，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺(tái)，同比增長12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長18.40%。

圖表：中國電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況

數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院

據(jù)測算，2022-2025年光刻膠市場規(guī)模將達(dá)222、250、281和316億元，成長空間廣闊。其中光電、傳感器、執(zhí)行器和分立器件 (統(tǒng)稱 OSD 設(shè)備)將達(dá)到創(chuàng)紀(jì)錄的 1155 億美元。半導(dǎo)體產(chǎn)品銷售的強(qiáng)勢增長，為半導(dǎo) 體材料市場提供厚實(shí)基礎(chǔ)，作為耗材，其每年的需求量整體穩(wěn)步上升。SMIC 的招股說明書中，光阻(光刻膠及配套試劑)成本占比在所有原材料中占第二大，為 14.4%，處 在較高地位。因此綜合整體半導(dǎo)體材料端的需求增長及光刻膠自身在材料中極高的地位， 未來光刻膠市場需求也將不斷穩(wěn)定擴(kuò)大。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)報(bào)告在公司多年研究結(jié)論的基礎(chǔ)上，結(jié)合中國行業(yè)市場的發(fā)展現(xiàn)狀，通過公司資深研究團(tuán)隊(duì)對市場各類資訊進(jìn)行整理分析，電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)相關(guān)數(shù)據(jù)依托國家權(quán)威數(shù)據(jù)資源和長期市場監(jiān)測的中研普華數(shù)據(jù)庫，進(jìn)行全面、細(xì)致的研究，是中國市場上最權(quán)威、有效的研究產(chǎn)品。電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)研究報(bào)告可以幫助投資者合理分析行業(yè)的市場現(xiàn)狀，為投資者進(jìn)行投資作出行業(yè)前景預(yù)判，挖掘投資價(jià)值，同時(shí)提出電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)投資策略和營銷策略等方面的建議。

電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)報(bào)告由中研普華行業(yè)分析專家領(lǐng)銜撰寫，主要分析了行業(yè)的市場規(guī)模、發(fā)展現(xiàn)狀與投資前景，同時(shí)對電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)的未來發(fā)展做出科學(xué)的趨勢預(yù)測和專業(yè)的行業(yè)數(shù)據(jù)分析，幫助客戶評估行業(yè)投資價(jià)值。

未來電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)市場前景現(xiàn)狀如何?更多行業(yè)具體詳情可以點(diǎn)擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)研究院出版的《2023-2028年電子束曝光系統(tǒng)(EBL)行業(yè)深度分析及投資戰(zhàn)略研究咨詢報(bào)告》。

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